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  • HERCULESDymek岱美儀器量產(chǎn)型光刻機(jī)系統(tǒng)

    光刻機(jī)Track系統(tǒng)通過(guò)集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對(duì)準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理的高度自動(dòng)化功能,完善了EVG光刻機(jī)產(chǎn)品系列。HERCULES光刻機(jī)Track系統(tǒng)基于模塊化平臺(tái),將EVG已建立的光學(xué)掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)與集成的清潔,光刻膠涂層,烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。將HERCULES平臺(tái)變成了“一站式服務(wù)”,在這里將經(jīng)過(guò)預(yù)處理的晶圓裝載到工具中,然后將結(jié)構(gòu)化的經(jīng)過(guò)處理的晶圓退回。

    更新時(shí)間:2024-11-09
    型號(hào):HERCULES
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:3355
  • IQ Aligner NTDymek岱美中國(guó)儀器自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

    ?新型IQ Aligner NT具有高強(qiáng)度和高均勻度的曝光光學(xué)器件,新的晶圓處理硬件,可實(shí)現(xiàn)全局多點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件,從而使生產(chǎn)率提高了2倍與EVG上一代IQ Aligner相比,對(duì)準(zhǔn)精度提高了2倍。該系統(tǒng)超越了晶圓凸塊和其他后端光刻應(yīng)用的蕞苛刻要求,同時(shí)與競(jìng)爭(zhēng)系統(tǒng)相比,擁有成本降低了30%。

    更新時(shí)間:2024-11-09
    型號(hào):IQ Aligner NT
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:1406
  • EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng)

    EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng) 特色:EVG ® 6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米。

    更新時(shí)間:2024-11-09
    型號(hào):
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:3157
  • IQ Aligner 自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

    IQ Aligner 自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 用于自動(dòng)非接觸近距離掩模對(duì)準(zhǔn)光刻,進(jìn)行了處理和優(yōu)化,用于晶圓片的尺寸高達(dá)200毫米。

    更新時(shí)間:2024-11-09
    型號(hào):
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:2205
  • EVG610EVG單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

    EVG單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)EVG610(單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī) 微流控 納米壓?。┲С指鞣N標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對(duì)準(zhǔn)方式。此外,該系統(tǒng)還提供其他功能,包括鍵合對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿足不斷變化的用戶需求,轉(zhuǎn)換時(shí)間不到幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念適合初學(xué)者到專家級(jí)各個(gè)階層用戶,非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。

    更新時(shí)間:2024-11-09
    型號(hào):EVG610
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:8709
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