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納米壓印支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。
EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱,可在最小的占位面積上提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對準技術,并具有最高的產能,優(yōu)良的對準功能和優(yōu)化的總擁有成本。操作員友好型軟件,最短的掩模和工具更換時間以及高效的*服務和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200 NT或安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準系統(tǒng)有半自動或自動配置,并配有集成的振動隔離功能。
長達 150 毫米的自動化全場紫外納米壓印解決方案,采用 EVG 專有的 SmartNIL 技術
EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,在蕞小的占位面積上結合了優(yōu)良的對準功能和蕞優(yōu)化的總體擁有成本,提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具,可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件,蕞短的掩模和工具更換時間以及高效的*服務和支持,使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。